彭博社引述消息人士报道，美光有望从日本政府获得约2000亿日元（约15亿美元）财政补贴资金，以帮助其在日本生产下一代存储芯片。

当地时间周三，美光科技表示，在日本政府的支持下，在未来几年内向极紫外 (EUV) 技术投资最多5000亿日元（约37 亿美元）。

报道称，最新的EUV芯片制造设备被引入美光广岛工厂，用于生产其下一代DRAM芯片（1-gamma节点）。

该公司表示，美光将成为第一家将EUV技术引入日本进行生产的半导体公司，并补充说，预计从2025年起将加大1-gamma的在中国台湾地区和日本的生产力度。

国际电子商情了解到，去年实施的《半导体援助法》是日本努力提升国内半导体生产的最新举措，对于符合要求的芯片制造企业，将有可能获得“半额”设备费用的补助资金。

《半导体援助法》对在日本国内兴建先进半导体工厂提供补贴的“特定高度情报通信技术活用系统开发供给导入促进法（5G法）”等相关法案自2022年3月1日实行，只要申请企业提出的生产计划符合“持续生产10年以上”、“供需紧绷时能增产应对”等条件，最高将可获得设备费用“半额”的补助金。

众所周知，半导体行业的发展程度是国家科技实力的重要体现，全球主要国家和地区竞相发展的重要新兴技术和产业。和其他国家一样，日本近年来也一直在努力重振其芯片行业，其全球市场份额已从1980 年代后期的约50%降至约10%。

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